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高純鉻靶的目標雜質控制:如果靶中的夾雜物數量過多,則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒,從而導致互連線短路或斷開,這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的,主要由氧化物組成,但也包括氮化物,碳化物,氫化物,硫化物,硅化物等,因此應在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝,內部 流道,鑄模等由還原性材料制成,在澆鑄之前,應將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常,它們在真空或無
湛江鎳鉻合金靶廠:打造世界的鎳鉻合金靶產品 湛江鎳鉻合金靶廠是一家專業生產高品質鎳鉻合金靶材的科技型民營股份制企業。憑借著公司擁有多名中**專業技術人員和專業化應用實驗室,以及強大的蒸發材料開發能力,我們致力于為國內外眾多電子、太陽能企業提供高性能、高質量的鎳鉻合金靶產品。 **鎳鉻合金靶的特性和應用** 鎳鉻合金靶材是由鎳和鉻按照一定比例合成的合金構成的濺射靶材。這種合金具有一系列優異的物理和化
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公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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