分子泵組應用于低溫真空探針臺

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, 絕緣體, 導體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,
HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵
上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空插板閥在半導體管道中的應用半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統 ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環節,
英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量
英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件