上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用
半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環節,?用來改變氣流方向,?調節氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb
分子泵組與紅外光譜儀聯用
分子泵組與紅外光譜儀聯用進行工業催化材料分析上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進行工業催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學實驗室, 采用浸漬法進行試驗, 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環境下進行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級泵和分子泵的結合, 體積小巧, 即插即
HVA 真空閥門用在氣體管路系統
某半導體工廠在生產線上氣體輸送環節的氣體管路系統采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術創新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應商.?在設計真空系統時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16
KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用
上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污